- +86-13526935931
- gwdlthermo@gwdl.com
Предназначен для проведения термообработки в вакууме, инертном газе, восстановительной или окислительной атмосфере, обеспечивая точный и стабильный контроль температуры на протяжении всего процесса.
Наши лабораторные трубчатые печи разработаны для обеспечения стабильной и равномерной тепловой среды для широкого спектра экспериментальных задач. Доступные в различных конфигурациях, включая однозонные, многозонные, раздельные и модели с вертикальной загрузкой, эти печи поддерживают точный контроль температуры и подходят как для небольших испытаний материалов, так и для непрерывных исследований.
Трехзонная трубчатая печь с независимым управлением скоростью подачи материала и вращением трубки (1-15 об/мин). Конструкция с ручной загрузкой упрощает обработку партий до 1200℃.
Трехзонный контроль температуры для усовершенствованных тепловых профилей Раздельная верхняя открывающаяся камера для простого обслуживания и безопасной работы Регулируемый наклон и вращение обеспечивают равномерный нагрев и плавный поток материала Удобные поворотные регуляторы для использования как в лабораторных, так и в производственных условиях
Высокоэффективная многопозиционная наклонная трубчатая печь для параллельной обработки материалов. Имеет регулируемый наклон и вращающуюся конструкцию трубки для равномерной термообработки. Идеально подходит для исследования катализаторов и мелкосерийного синтеза.
Соединяет лабораторные исследования и промышленное производство благодаря 3-зонному независимому нагреву + регулируемому вращению/наклону. Идеально подходит для исследований материалов (градиенты 300-700℃) и круглосуточной автоматизированной работы.
Передовая многозонная трубчатая печь с независимым контролем температуры для исследования материалов, с настраиваемыми профилями нагрева и равномерным тепловым распределением.
Профессиональная многозонная трубчатая печь CVD с интегрированной системой управления газом, обеспечивающая равномерность температуры ±1℃ и программируемый поток газа для точного осаждения тонких пленок. Идеально подходит для нанесения графена, полупроводниковых покрытий и синтеза наноматериалов.
