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GWDL Escudo calefactor W-Mo

GWDL Escudo calefactor W-Mo

Autor:Yi
Fecha de publicación:2025-08-22 14:35
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La GWDL - pantalla calefactora de tungsteno-molibdeno puede entenderse como un elemento calefactor compuesto de materiales de tungsteno y molibdeno, que presenta una estructura en forma de rejilla (o pantalla), comúnmente utilizada en entornos de temperaturas extremadamente altas.

Principales características y ventajas:

  1. Temperatura de funcionamiento extremadamente alta:
    La temperatura máxima de funcionamiento puede superar los 2000°C (dependiendo de la proporción de tungsteno y molibdeno y del diseño estructural), lo que lo hace especialmente adecuado para procesos de temperatura ultra alta.
  2. Excelente rendimiento en vacío:
    El tungsteno y el molibdeno tienen presiones de vapor muy bajas a altas temperaturas, lo que minimiza la evaporación, evita la contaminación de los productos del horno y ayuda a mantener la integridad del vacío.
  3. Buena estabilidad térmica:
    Resiste la deformación a altas temperaturas, manteniendo la estabilidad estructural y garantizando la uniformidad del campo térmico.
  4. Fuerte resistencia a la corrosión:
    En vacío o en atmósferas inertes (como argón o hidrógeno), es resistente a la corrosión de diversos entornos químicos.
  5. Alta eficiencia térmica:
    El diseño de la estructura en forma de pantalla contribuye a la formación de una zona de calentamiento uniforme y focalizada.

Principales campos de aplicación
          Esta pantalla calefactora es un componente central de equipos térmicos de alta gama, utilizado principalmente en:

      1.Hornos de sinterización al vacío: Para sinterizar carburo de tungsteno, materiales cerámicos (como circonio y alúmina), metales refractarios (como tungsteno, molibdeno y tántalo) y sus aleaciones.

      2.Hornos de recocido de alta temperatura: Utilizados para procesos de recocido a alta temperatura de materiales como el silicio monocristalino y el arseniuro de galio en la industria de semiconductores.

      3. Hornos de deposición química de vapor (CVD): Para la producción de materiales como cristales de carburo de silicio y películas finas de diamante.

      4.Hornos de investigación científica y experimentales: Equipos experimentales utilizados por universidades e instituciones de investigación para estudios de materiales a ultra alta temperatura.

Hornos de investigación científica y experimentales: Equipos experimentales utilizados por universidades e instituciones de investigación para estudios de materiales a ultra alta temperatura.

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