Horno de alto vacío

Horno de alto vacío con un nivel de vacío final de 10-⁵ Pa

El horno de alto vacío GWDL alcanza un nivel de vacío final de hasta 10-⁵ Pascal, proporcionando un entorno ultralimpio y libre de oxidación ideal para el procesamiento de materiales sensibles. Diseñado para laboratorios de investigación e industrias de alta tecnología, permite un tratamiento térmico preciso de metales, cerámicas y materiales compuestos que requieren atmósferas libres de contaminación.

Equipado con avanzados sistemas de bombeo de vacío que incluyen bombas turbomoleculares y secas, el horno garantiza una evacuación rápida y un mantenimiento estable del vacío ultraalto. La robusta cámara y los elementos calefactores están optimizados para una distribución uniforme de la temperatura con un control preciso (±1°C), alcanzando temperaturas de hasta 1800°C en función de la configuración.

Este horno admite aplicaciones como recocido de aleaciones, sinterización, soldadura fuerte y deposición de películas finas en condiciones de ultra alto vacío. Su diseño modular permite la integración con sistemas de introducción de gas, bloqueos de carga y refrigeración.